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真空釬焊爐是一種真空爐的大型設備

真空釬焊爐主要由真空釬焊爐和真空系統兩部分組成，在真空狀態(tài)下，把一組焊接件加熱到填充金屬熔點(diǎn)溫度以上，但低于基體金屬熔點(diǎn)溫度，借助于填充金屬對基體金屬的濕潤和流動(dòng)形成焊縫的一種焊接工藝（釬焊溫度因材料不同而異）。工作原理：該爐能夠進(jìn)行真空釬焊、真空退火、真空時(shí)效等多種加工?？删幎鄠€(gè)不同程序，能控制和編入上百個(gè)熱處理曲線(xiàn)點(diǎn)，分上、下、左右、前后六區控溫，有多點(diǎn)和單點(diǎn)溫度記錄儀以及過(guò)溫保護裝置，爐溫均勻性可控制在恒定溫度范圍以?xún)?，另配有高純氮高流量強冷裝置。該設備具有裝爐量大、效...

1200℃管式爐采用高質(zhì)量電爐絲作為加熱元件

1200℃管式爐采用高質(zhì)量電爐絲作為加熱元件，加熱溫度可達1200℃，石英爐管管徑為50mm。該款隔熱屏真空熱處理爐各項指標均達到了國際水平，可實(shí)現快速升溫和降溫，可實(shí)現無(wú)氧化、無(wú)脫碳、無(wú)滲碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用，從而達到表面光亮凈化的效果。主要運用于冶金、玻璃、熱處理、鋰電正負極材料、新能源、磨具等行業(yè)，也可用于氣氛環(huán)境下的熱處理，也可用于組成CVD系統，進(jìn)行相關(guān)的鍍膜試驗生產(chǎn)。1200℃管式爐產(chǎn)品特點(diǎn)：1、一體化設計，結構緊湊，外形美觀(guān)，自帶腳輪，移...

壓力燒結爐是生產(chǎn)高性能硬質(zhì)合金的關(guān)鍵設備

壓力燒結爐結合了脫蠟、真空燒結和后續的熱等靜壓致密化等工藝，用于硬質(zhì)合金或工程陶瓷的處理，可在真空、反應氣體和高至100巴的壓力下工作。低孔隙度是高質(zhì)量硬質(zhì)合金的重要標志，氣體壓力燒結能有效消除硬質(zhì)合金孔隙度，達到真空、氫氣燒結爐無(wú)法達到的效果。隨著(zhù)經(jīng)濟的發(fā)展，硬質(zhì)合金生產(chǎn)技術(shù)不斷進(jìn)步，壓力燒結已經(jīng)成為高質(zhì)量硬質(zhì)合金燒結的一種主導技術(shù)。在硬質(zhì)合金生產(chǎn)工藝中，燒結是決定硬質(zhì)合金結構與性能的關(guān)鍵工序。是生產(chǎn)高性能硬質(zhì)合金的關(guān)鍵設備，經(jīng)壓力燒結的硬質(zhì)合金制品，具有極優(yōu)良的組織結構，...

漲知識！PECVD系統工藝干貨分享

PECVD系統技術(shù)是在低氣壓下，利用低溫等離子體在工藝腔體的陰極上（即樣品放置的托盤(pán)）產(chǎn)生輝光放電，利用輝光放電（或另加發(fā)熱體）使樣品升溫到預定的溫度，然后通入適量的工藝氣體，這些氣體經(jīng)一系列化學(xué)反應和等離子體反應，最終在樣品表面形成固態(tài)薄膜。在反應過(guò)程中，反應氣體從進(jìn)氣口進(jìn)入爐腔，逐漸擴散至樣品表面，在射頻源激發(fā)的電場(chǎng)作用下，反應氣體分解成電子、離子和活性基團等。這些分解物發(fā)生化學(xué)反應，生成形成膜的初始成分和副反應物，這些生成物以化學(xué)鍵的形式吸附到樣品表面，生成固態(tài)膜的晶核...

連續式回轉爐能夠實(shí)現高密封精度的指標要求

連續式回轉爐適用于無(wú)機鹽粉體材料（如磷酸鐵鋰、碳酸錳、碳酸鋇）、金屬粉體等在氧化性（如空氣）或還原性氣氛（如氮氫混合氣）下的焙燒反應，也適用于化工行業(yè)催化劑載體氧化性處理以及石墨烯、納米材料、稀土等高新材料?；剞D窯的主要特點(diǎn)：在熱處理即焙燒過(guò)程中，回轉筒體有個(gè)小傾斜度，散裝固體在窯中不斷地從進(jìn)料端移動(dòng)到出料端。窯爐一般都是連續、自動(dòng)運行的。它們可以直接運輸散裝固體，而不需要進(jìn)一步的輸送設備，這使得這些窯爐更加節能。由于回轉窯焙燒工藝對散裝固體或者粉體有著(zhù)重要的機械影響，因此必...

氣氛管式爐在操作時(shí)，以下幾點(diǎn)得注意了

相信大多數人都知道，在工業(yè)上使用的氣氛管式爐中，許多可控氣體是可燃的，在特殊的條件下可能發(fā)生爆炸。這種爆炸可能損壞設備和威脅操作人員的人身安全。因此，在設備運行中，應對潛在的危險給予高度重視。在已發(fā)生的事件中，特別引人注意的是，必須按照操作規程進(jìn)行操作。在可能發(fā)生危險之前，必須認真分析和研究安全操作規程。沒(méi)有多少設備在任何危急的情況下都能安全地運行。既使能做到這一點(diǎn)，但為了提高生產(chǎn)率，技術(shù)熟練的操作者往往也不愿意在整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程中使用所有的安全系統。下面我們一起去看看氣氛管式爐...

淺析PECVD系統的工藝原理

PECVD系統主要由真空和壓力控制系統、淀積系統、氣體及流量控制、系統安全保護系統、計算機控制等部分組成。該技術(shù)是在低氣壓下，利用低溫等離子體在工藝腔體的陰極上（即樣品放置的托盤(pán)）產(chǎn)生輝光放電，利用輝光放電（或另加發(fā)熱體）使樣品升溫到預定的溫度，然后通入適量的工藝氣體，這些氣體經(jīng)一系列化學(xué)反應和等離子體反應，最終在樣品表面形成固態(tài)薄膜。工藝原理：在反應過(guò)程中，反應氣體從進(jìn)氣口進(jìn)入爐腔，逐漸擴散至樣品表面，在射頻源激發(fā)的電場(chǎng)作用下，反應氣體分解成電子、離子和活性基團等。這些分解...

滑軌式管式爐淬火不充分引起變形

滑軌式管式爐是一體化結構設計，用于1100℃以下快速升溫快速降溫的特殊工藝要求，通過(guò)移動(dòng)爐體實(shí)現快速冷卻的目的。同時(shí)也可以預先設定溫度，然后移動(dòng)到樣品處，達到快速升溫的效果。適合用于廣泛的RTP工藝及CVD石墨烯工藝。適用于要求升降溫速度比較快的CVD實(shí)驗。爐體采用MXG1200開(kāi)啟式管式爐，爐底安裝有直線(xiàn)滑軌，當生長(cháng)結束后，左右拉動(dòng)爐體能夠保證有足夠的空間使實(shí)驗樣品移出爐體，實(shí)現快速降溫的要求。性能特點(diǎn)：1、工作溫度RT-1000℃；2、日本進(jìn)口智能程序控溫儀控制精準，可編...