氫氣還原爐的性能：

　　氫氣還原爐的外觀(guān)：鋼板外殼，殼外為不銹鋼爐體，方管機架——滿(mǎn)足爐體高溫運行條件下的承重、密封、部件運動(dòng)等需求。

　　殼內為保溫性材料，爐體為耐溫型材料——節約電能、滿(mǎn)足爐內的額定溫度的保溫要求。

　　鉬絲組合為氣體保護下的電熱體——滿(mǎn)足爐內燒結所需溫度。

　　180°回轉傳送滾輪和8米直行傳送帶——滿(mǎn)足成品運送至成品臺面

　　可調全自動(dòng)PLC和行程開(kāi)關(guān)控制，多臺電動(dòng)機完成執行動(dòng)作，觸摸屏顯示全部自動(dòng)控制并可執行部分操控——滿(mǎn)足爐體全自動(dòng)運行的技術(shù)要求。

　　電熱偶、溫控表、調控調壓器組合成為可調動(dòng)控溫系統——滿(mǎn)足爐內溫度的可調自動(dòng)控制。

　　自動(dòng)推進(jìn)系統——滿(mǎn)足燒結過(guò)程不停爐、原料自動(dòng)進(jìn)爐，成品自動(dòng)出爐，連續燒結的運行需求。

 

　　以下是氫氣還原爐的主要組成部分：

　　爐體：這是還原爐的核心部分，通常由耐高溫材料制成，能夠承受高溫和化學(xué)反應的環(huán)境。爐體內部設有加熱元件，用于提供必要的反應溫度。

　　加熱系統：包括加熱元件和溫控系統。加熱元件可以是電阻絲、感應線(xiàn)圈等，用于產(chǎn)生高溫。溫控系統則用于監控和調節爐內溫度，確保反應在適宜的溫度下進(jìn)行。

　　氫氣供應系統：包括氫氣儲罐、減壓閥、流量計和管道等，用于向爐內提供穩定的氫氣流量。氫氣在反應中起到還原劑的作用，將金屬氧化物還原為金屬。

　　排氣系統：用于排出反應過(guò)程中產(chǎn)生的廢氣，通常包括排氣管道、冷卻器和尾氣處理裝置等。排氣系統需要具備良好的密封性和安全性，以防止氫氣泄漏和爆炸。

　　控制系統：包括溫度控制器、壓力控制器和流量控制器等，用于監控和調節還原爐的各項參數，確保反應過(guò)程的安全和高效。

　　安全系統：包括各種傳感器和報警裝置，用于監測爐內的溫度、壓力和氣體濃度等，一旦發(fā)現異常情況，能夠及時(shí)報警并采取應急措施。

　　冷卻系統：用于在反應結束后快速冷卻爐體和產(chǎn)物，防止高溫對設備和產(chǎn)物造成損害。冷卻系統通常包括冷卻水循環(huán)系統或風(fēng)冷系統。

　　

　　氫氣還原爐創(chuàng )新特點(diǎn)：

　　全自動(dòng)連續運行幾百~幾千個(gè)小時(shí)，連續工作，節約電能。

　　設備對爐內提供N2/H2混合氣體保護。

　　高溫區長(cháng)達4米，zui高溫度可達到1650℃。

　　只需一人操作，即可完成生產(chǎn)全過(guò)程。