真空爐的發(fā)熱元件一般呈圓形布置。真空加熱相對普通爐來(lái)說(shuō)，其傳熱方式只有輻射，沒(méi)有傳導和對流；非真空加熱時(shí)有傳導、對流和輻射三種方式，其中對流、傳導根據壓力的不同又與普通爐（ 常規壓力） 同。

    壓力小于1 ×105Pa （ 壓力，普通爐的近似工作壓力） 時(shí)，其對流、傳導作用小于普通爐; 壓力接近工作真空度（ 2Pa） 時(shí)，其對流、傳導作用基本不存在，工件升溫緩慢，特別是低于600 ℃ 以下加熱時(shí)，加熱更為緩慢，工件溫度相對控溫熱電偶的溫度有一定的滯后現象。