（1）嚴格的真空密封：金屬零件進(jìn)行真空熱處理均在密閉的真空爐內進(jìn)行，獲得和維持爐子原定的漏氣率，保證真空爐的工作真空度，對確保零件真空熱處理的質(zhì)量有著(zhù)非常重要的意義。所以真空熱處理爐的一個(gè)關(guān)鍵問(wèn)題，就是要有可靠的真空密封結構。為了保證真空爐的真空性能，在真空熱處理爐結構設計中必須道循一個(gè)基本原則，就是爐體要采用氣密焊接，同時(shí)在爐體上盡量少開(kāi)或者不開(kāi)孔，少采用或者避免采用動(dòng)密封結構，以盡量減少真空泄漏的機會(huì )。安裝在真空爐體上的部件、附件等如水冷電極、熱電偶導出裝置也都必須設計密封結構。
（2）大部分加熱與隔熱材料只能在真空狀態(tài)下使用：真空爐的加熱與隔熱襯料是在真空與高溫下工作的，因而對這些材料提出了耐高溫，蒸汽壓低，輻射效果好，導熱系數小等要求。對抗氧化性能要求不高。所以，真空熱處理爐廣泛采用了鉭、鎢、鉬和石墨等作加熱與隔熱構料。這些材料在大氣狀態(tài)下極易氧化，因此，常規熱處理爐不能采用這些加熱與隔熱材料。
（3）水冷裝置，真空爐的爐殼、爐蓋、電熱元件導別處置、中間真空隔熱門(mén)等部件，均在真空、受熱狀態(tài)下工作。在這種極為不利的條件下工作，必須保證各部件的結構不變形、不損壞，真空密封圈不過(guò)熱、不燒毀。因此，各部件應該根據不同的情況設置水冷裝置，以保證真空熱處理爐能夠正常運行并有足夠的使用壽命。
（4）采用低電壓大電流：在真空容器內，當真空空度為幾托一lxlo-1托的范圍內時(shí)，真空容器內的通電導體在較高的電壓下，會(huì )產(chǎn)生輝光放電現象。在真空熱處理爐內，嚴重的會(huì )產(chǎn)生弧光放電，燒毀電熱元件、隔熱層等，造成重大事故和損失。因此，真空熱處理爐的電熱元件的工作電壓，一般都不超過(guò)80一100伏。同時(shí)在電熱元件結構設計時(shí)要采取有效措施，如盡量避免有的部件，電極間的間距不能太小窄，以防止輝光放電或者弧光放電的發(fā)生
（5）自動(dòng)化程度高：金屬工件的加熱、冷卻等操作，需要十幾個(gè)甚至幾十個(gè)動(dòng)作來(lái)完成。這些動(dòng)作內在真空熱處理爐內進(jìn)行，操作人員無(wú)法接近。同時(shí)，有些動(dòng)作如加熱保溫結束后，金屬工件進(jìn)行淬火工序須六、六個(gè)動(dòng)作并且要在15秒鐘以?xún)韧瓿?。在這樣迅速的條件來(lái)完成許多動(dòng)作，是很容易造成操作人員的緊張而構成誤操作，只有較高的目動(dòng)化才能準確、及時(shí)按程序協(xié)調動(dòng)。