真空爐爐溫控制系統主要由可控硅觸發(fā)勵磁裝置、單片機模糊控制器、熱電偶傳感器、磁性調壓器和記錄儀等構成，這些與被控對象（真空加熱室內鉬絲加熱器）共同構成直接數字控制（DDC）系統，整個(gè)控制構成了一個(gè)閉環(huán)微調系統。

爐恒溫區內裝有測溫熱電偶，前端蓋配有觀(guān)察孔，后端蓋帶微調屏，加熱室體上，側面均開(kāi)有通風(fēng)孔，冷卻工件時(shí)起導流作用。加熱室由鉬制材料、不銹鋼、陶瓷及硅酸鋁纖維氈等構成，加熱器由多股鉬絲捆成一束構成并沿爐體軸線(xiàn)方向及垂直方向均勻分布。

真空爐單片機根據設定工藝曲線(xiàn)與檢測信號比較求得偏差后，由模糊控制算法進(jìn)行模糊推理，然后發(fā)出控制信號，通過(guò)可控硅觸發(fā)裝置控制可控硅的導通角，從而控制其輸出電壓，此交流可調電壓再經(jīng)二極管整流變?yōu)橹绷麟妷簩Υ判哉{壓器進(jìn)行勵磁控制，以控制磁性調壓器的輸出功率，功率連續可調，采用電阻加熱，達到控制溫度的目的。